制造三极管时，有意识地使发射区的多数载流子浓度大于基区的，同时基区做得很薄，而且，要严格控制杂质含量，这样，一旦接通电源后，由于发射结正偏，发射区的多数载流子（电子）及基区的多数载流子（空穴）很容易地越过发射结互相向对方扩散，但因前者的浓度基大于后者，所以通过发射结的电流基本上是电子流，这股电子流称为发射极电流子。由于基区很薄，杭州快恢复三极管用途,加上集电结的反偏，注入基区的电子大部分越过集电结进入集电区而形成集电极电流Ic，只剩下很少（1-10%）的电子在基区的空穴进行复合，杭州快恢复三极管用途，被复合掉的基区空穴由基极电源Eb重新补给，杭州快恢复三极管用途。三极管发射结的电压小于PN结的导通电压，基极电流为零。杭州快恢复三极管用途

三极管BE结的非线性（相当于一个二极管），基极电流必须在输入电压 大到一定程度后才能产生（对于硅管，常取0.7V）。当基极与发射极之间的电压小于0.7V时，基极电流就可以认为是0。但实际中要放大的信号往往远比 0.7V要小，如果不加偏置的话，这么小的信号就不足以引起基极电流的改变（因为小于0.7V时，基极电流都是0）。如果我们事先在三极管的基极上加上一 个合适的电流（叫做偏置电流，上图中那个电阻Rb就是用来提供这个电流的，所以它被叫做基极偏置电阻），那么当一个小信号跟这个偏置电流叠加在一起时，小 信号就会导致基极电流的变化，而基极电流的变化，就会被放大并在集电极上输出。宁波TOS三极管命名“Triode”（电子三极管）这个是英汉词典里面 “三极管” 的英文翻译。

三极管饱和区的特点是，三级管的电流与IB和VCE有关，但是与VCE相关程度更大，因为可以看到当VCE固定时，不同的IB变化引起的IC变化不大；但是反过来，IB固定，VCE变化一点点就会引起IC剧烈变化，换句话说三极管已经饱和了，已经不受控于IB而受控于VCE了。饱和的意思就是满了，我们可以用向水杯子倒水的模型来理解这个过程，IB就是倒水的水流，IC就是水面的高度，VCE就是指水面的高度。饱和就是指水满了，饱和时状态所示，此时水面高度IC已经满了（已经饱和）不受控于IB了，而受控于水杯的高度VCE，如果想要进一步增加IC，就需要增加水杯高度VCE，这样理解饱和这个概念就更形象易懂了。

三极管的工作原理：是输出信号范围的要求，如果没有加偏置，那么只有对那些增加的信号放大，而对减小的信号无效(因为没有偏置时集电极电流为0，不能再减小了)。而加上偏置，事先让集电极有一定的电流，当输入的基极电流变小时，集电极电流就可以减小;当输入的基极电流增大时，集电极电流就增大。这样减小的信号和增大的信号都可以被放大了。因为发射区多子浓度高，使大量电子从发射区扩散到基区，扩散运动形成发射极电流 ；因为基区薄且多子浓度低，使极少数扩散到基区的电子与空穴复合，复合运动形成基极电流 ；因为集电区面积大，在外电场作用下大部分扩散到基区的电子漂移到集电区，漂移运动形成集电极电流 。三极管按结构工艺分：合金管、平面管。

选用三极管需要了解三极管的主要参数。若手中有一本晶体管特性手册好。三极管的参数很多，其中必须了解的四个极限参数：ICM、BVCEO、PCM、fT、TON TOFF 等，可满足95%以上的使用需要。ICM是集电极大允许电流。三极管工作时当它的集电极电流超过一定数值时，它的电流放大系数β将下降。为此规定三极管的电流放大系数β变化不超过允许值时的集电极大电流称为ICM。所以在使用中当集电极电流IC超过ICM时不至于损坏三极管，但会使β值减小，影响电路的工作性能。晶体三极管是在一块半导体基片上制作两个相距很近的PN结。宁波普通三极管特点

开关三极管因功率的不同可分为小功率开关管、中型率和大功率开关管。杭州快恢复三极管用途

三极管放大作用集电极电流受基极电流的控制(假设电源能够提供给集电极足够大的电流的话)，并且基极电流很小的变化，会引起集电极电流很大的变化，且变化满足一定的比例关系：集电极电流的变化量是基极电流变化量的β倍，即电流变化被放大了β倍，所以我们把β叫做三极管的放大倍数(β一般远大于1，例如几十，几百)。如果我们将一个变化的小信号加到基极跟发射极之间，这就会引起基极电流Ib的变化，Ib的变化被放大后，导致了Ic很大的变化。如果集电极电流Ic是流过一个电阻R的，那么根据电压计算公式U=R*I可以算得，这电阻上电压就会发生很大的变化。我们将这个电阻上的电压取出来，就得到了放大后的电压信号了。杭州快恢复三极管用途

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