是采用超声波清洗机清洗还是喷淋清洗：这在选用清洗剂时也有讲究，北京银网清洗剂供应，如果是水基型清洗剂在超声波清洗机中清洗，则对泡沫要求不太敏感，而用喷淋洗则对泡沫就有要求，要求是低泡的除油脱脂清洗剂。但这也存在一个矛盾，大凡低泡的清洗剂，由于很多优异的表面活性剂不能采用，因而它去油脱脂能力就相对较弱，其清洗效果就很难达到高泡的清洗剂的效果，这在选择清洗剂时一定要综合考虑。清洗后是要求防锈还是不要求防锈这又是一个考虑问题：生产工艺流程的清洗所选用的清洗剂一般的水基型的清洗剂为主，因为水基产品成本低，北京银网清洗剂供应，较经济，水基清洗剂如果不具备防锈功能则加快了金属材料的生锈，原因是清洗后将表面的保护层去掉了会加快生绣。如果对防锈有要求则应该选用带防锈功能的水基清洗剂，在选择时应根据企业的具体情况适当选用。同样，北京银网清洗剂供应，凡事有利也有弊，如果水基产品增加带防锈的一些成份，这些成份又有可能降低水基清洗剂的清洗功能，其清洗力可能会下降。 半导体清洗剂优缺点分析。北京银网清洗剂供应

助焊剂(flux)的成份简介

助焊剂的内容基本包含下列四种主要成份：

树脂松香(Resin)：40~50%。      

松香带有黏性，可以在被焊金属的表面形成保护层以隔绝空气，减少加热过程中与氧气的接触，降低氧化率。

活性剂(activator)：2~5%。

主要作用起到清洁并去除金属表面的氧化层，并且降低焊锡的表面张力，帮助焊锡。

溶剂(solvent)：30%。          

溶剂可以帮助溶解并混合助焊剂中的不同化学物质，并且让助焊剂可以均匀的混合于锡粉当中。溶剂具有挥发性，所以不建议让锡膏长期暴露于空气中，以避免溶剂挥发，锡膏变干，影响焊接。

触变剂(rheology modifier)：5%。

用于调节锡膏的黏度达到膏状的目的，增强锡膏的可印刷性，让锡膏印刷于电路板后仍能保持原有的形状不至于坍塌。 北京银网清洗剂供应pcb清洗剂的特点说明。

PCBA水洗制程的麻烦、缺点：

所谓「水洗」，就是使用液体溶剂或纯水来清洗板子，因为一般的酸性物质都可以溶解在水中，所以可以使用「水」来溶解清洗，所以称之为水洗，但是免洗助焊剂使用松香则无法溶解于「水」中，比需使用「有机溶剂」来清洗，但一样被称之为「水洗」，大部分的水洗制程都会使用「超音波」震荡来加强清洗效果及缩短时间，这些清洗剂在清洗的过程当中极有可能会渗透到一些有着细小孔隙的电子零件或电路板之中造成不良。

以SMT制程来说，「水洗制程」与「免洗制程」的比较大差异在锡膏中助焊剂的成份不同，波焊制程就纯粹是炉前助焊剂的成份，这是因为助焊剂(flux)的主要目的在去除被焊接物的表面张力及氧化物以取得洁净的焊接表面，而去除氧化的适宜良药当属「酸」及「盐」这类化学药剂，但是「酸」及「盐」具有腐蚀性，如果残留在PCB表面，会随着时间而腐蚀铜面，造成严重质量不良。

其实，既使是使用免洗制程生产出来的板子，如果助焊剂的配方不当（通常是用到一些来路不明的锡膏，或是有特别强调吃锡效果或可以去氧化物的锡膏时，因为这些锡膏的助焊剂通常会添加弱酸）或是助焊剂残留过多，时间久了锡膏与空气中的湿气与污染物质混合后也可能对电路板的铜面造成腐蚀现象。当板子有被腐蚀风险时，清洗还是必要的。所以，并不是说「免洗制程」的板子就一定不需要清洗，当然能不水洗就不要水洗，毕竟水洗很麻烦。

半导体清洗剂成分介绍。

    颗粒物污染的分类：颗粒污染物指在产品设计开发时没有将其列入产品的一部分却实际含有了的任何物质，甚至包括产品生产时所需要的原物料本身。举例如下：金属、玻璃、石头、头发、塑料，甚至原料本身所附有的物质，产品加工生产过程中产生的原材料本体颗粒、加工刃具上剥离下来的颗粒。一般来讲，除了原材料本体附着、包装物附着和操作人员皮肤与着装附着的颗粒物是从外部带入的外，洁净室的颗粒物污染大部分是从内部产生。空气中的颗粒物主要由设备运转、生产过程、人员因素产生，这3种途径共计产生了85%的颗粒物。洁净室关于颗粒物污染治理的原则包括4条:不将颗粒物带入，不让颗粒物产生，不让颗粒物堆积，迅速排除颗粒物，因此洁净室内，除了对作业人员的洁净服装，对带入的工具、材料等，对于设备的清理和通风都要严格的要求外，先进的颗粒物污染清洗工艺研究，也是现代电子工业重点关注的领域之一。 不同清洗剂介绍说明。南京芯片清洗剂成分介绍

化学清洗剂的化学成分。北京银网清洗剂供应

    根据电子制造业长期以来的品质管控数据统计结果来看，整个生产制造过程中，约有50%~70%的品质不良，都是由产品被污染所致。早在上世纪七十年代，电子制造业就有了专门针对金属及其离子污染的“ROSE——电阻率的溶剂萃取法”检测标准。清洗作业是目前去除产品污染有效方式，因此从半导体芯片制造、封装，到后面的PCAB封装环节，几乎每完成一道加工工序，都紧接着会有一道清洗作业。如清洗步骤数量是芯片制造工艺步骤占比比较大的工序，约占所有芯片制造工序步骤的30%以上。伴随半导体制造技术节点的进步，清洗工序的数量和重要性将继续提高。在半导体芯片工艺技术节点进入28nm、14nm以及更先进等级后，工艺流程的延长且越趋复杂，产线成品率也会随之下降。造成这种现象的一个原因就是先进制程对杂质污染物的敏感度更高，小尺寸污染物的高效清洗更困难。解决的方法主要是增加清洗步骤，以及采用清洗效率更高的水基型清洗技术。每个晶片在整个制造过程中需要甚至超过200道清洗步骤，晶圆清洗变得更加复杂、重要及富有挑战性。 北京银网清洗剂供应

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