等离子清洗机的用途主要表现四个方面：表面清洗：材料表面常常会有油脂、油污等有机物及氧化层，在粘合、焊接前，需要用等离子处理来得到完全洁净和无氧化层的表面；适用于金属、玻璃、陶瓷等多种材料。表面活化：在惰性材料表面生成活性基团，增强表面极性，提高表面能。等离子处理与灼烧处理相比，不会损害样品，同时还可以十分均匀地处理整个表面，不会产生有毒烟气，盲孔和带缝隙的样品也可以处理。表面刻蚀：在等离子刻蚀过程中，通过处理些气体的作用，安阳等离子清洗机HX-60-QXJ，被刻蚀物会变成气化物。处理些气体和基体气化物质被抽气系统抽出，表面连续被新鲜的处理些气体覆盖，安阳等离子清洗机HX-60-QXJ。无需刻蚀部分应使用相应材料覆盖起来。表面接枝与聚合：在等离子体表面活化产生的基团或等离子体引发聚合层不能与材料表面牢固结合时，安阳等离子清洗机HX-60-QXJ，采用等离子体接枝的方法来改善。可以有选择地对材料的整体、局部或复杂结构进行部分清洗。安阳等离子清洗机HX-60-QXJ

等离子清洗机的电源常用的有两种，一种是13.56KHz的射频电源，这种电源产生的等离子密度高，能量比较柔和，温度也比较低，功率通常1~2KW，大的可以做到5KW，小的几百W，是用得多的等离子电源；还有一种是40KHz的中频电源，这种电源与射频电源刚好相反，等离子的密度没有那么高，但是力度猛，能量高，高度也高，功率也很高，大的功率可以做几十KW，甚至从理论上面说，几百个KW，常用做除胶渣，刻蚀，真空等离子清洗机如果使用中频电源就需要加水冷，这也是常用的一种等离子电源。和平等离子清洗机HX-100-QXJ等离子清洗机清洗去除晶圆芯片表面的有害沾污杂质物，对半导体器件功能性、可靠性、集成度等显得尤为重要。

等离子清洗机又叫电浆清洗机，主要是通过等离子体作用于基材表面使其产生一系列的物理、化学作用，利用其中所包含的活性粒子和高能射线，与表面有机污染物分子碰撞发生物理、化学反应形成小分子挥发性物质，使其从表面移除，实现清洁效果。使用原理：在真空腔体里，通过电源在一定的基础压力之下，通入工作气体后，起辉产生高能无序的等离子体，通过等体子体轰击基材表面，形成活性官能团，从而使其起到表面活化，再由抽气系统将残留的小分子挥发物抽离腔体。

等离子表面清洗机已经普遍用于手机行业、玻璃行业、电子电路行业、材料行业、印刷造纸、纤维服装等等。在常压等离子体中，中性原子的温度接近于常温但电子温度可达2 ～10eV。与此同时，随着等离子体中原子的电离、复合、激发和跃迁，会产生紫外线，其光子能量也为2～4eV范围。显然等离子体中粒子和光子提供的能量是相当高的。在近几年，科技技术的不断发展，Lcd显示屏的等离子表面处理效果比传统工艺的处理效果提高不少，同时废品率降低了达到50%。用低温常压等离子体技术对 LCD玻璃进行清洗，不只能去除了杂质颗粒，提高了材料的表面能，还促进产品的成品率出现数量级的提高。同时由于低温等离子体是电中性的，因此在处理时不会损伤保护膜、ITO 膜层和偏振滤镜。等离子清洗机应用于高分子材料表面活化及有机污染物去除，但不适用于易氧化的金属表面。

伴随科技的不断发展，各种产品新材料也逐渐被发现，越来越多的科研机构已认识到等离子清洗机清洗的重要性。随着工业化、信息化的发展，等离子清洗机行业也正逐渐向信息化、智能化、自动化方向发展，在此背景下，相关企业需大力研发高级、高附加值产品，推进重大技术以及仪器设备的自主创新，走创新发展道路。等离子清洗机也叫等离子清洁机，或者等离子表面处理仪，是一种全新的高科技技术，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态，也叫做物质的第四态，并不属于常见的固液气三态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子清洗机清洗的涉及面也很普遍，覆盖范围包括橡胶、汽车、电子、**、医疗、纺织纤维等多个领域。和平等离子清洗机HX-100-QXJ

等离子清洗机的控制单元分为两个大的部分。安阳等离子清洗机HX-60-QXJ

等离子清洗机对孔壁凹蚀/孔壁树脂钻污的去除：对FR-4多层印刷电路板加工而言，其数控钻孔后对孔壁树脂钻污等物质的去除，通常采用浓硫酸处理，铬酸处理，碱性高锰酸钾处理和等离子体处理。但是，在挠性印制电路板和刚挠性印制电路板去除钻孔污垢的处理上，由于材料特性的差异，如果采用上述化学处理方法，效果并不理想，而用等离子体对钻孔污垢和凹蚀进行去除，则可以得到较好的孔壁粗糙度，有利于孔的金属化电镀，同时又具有“三维”凹蚀的连接特性。毫不犹豫地承担起了去除碳化物的重任。安阳等离子清洗机HX-60-QXJ

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