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荔湾工业超高压清洗机 东莞市恒芯半导体设备供应

信息介绍 / Information introduction

使用等离子清洗机进行等离子清洗,可以使得清洗效率获得极大的提高。整个清洗工艺流程几分钟内即可完成,因此具有产率高的特点;等离子清洗需要控制的真空度约为100Pa,这种清洗条件很容易达到。因此这种装置的设备成本不高,加上清洗过程不需要使用价格较为昂贵的有机溶剂,这使得整体成本要低于传统的湿法清洗工艺;使用等离子清洗,避免了对清洗液的运输、存储、排放等处理措施,所以生产场地很容易保持清洁卫生;等离子体清洗可以不分处理对象,它可以处理各种各样的材质,无论是金属、半导体、氧化物,还是髙分子材料(如聚丙烯,荔湾工业超高压清洗机、聚氯乙烯、聚四氟乙烯,荔湾工业超高压清洗机、聚酰亚胺、聚酯、环氧树脂等高聚物)都可以使用等离子体来处理。等离子清洗机特别适合于不耐热以及不耐溶剂的材质,荔湾工业超高压清洗机,有选择地对材料的整体、局部或复杂结构进行部分清洗。荔湾工业超高压清洗机

等离子清洗机还可以对聚四氟乙烯材料进行有效的处理,目前髙端轿车普遍使用聚四氟乙烯材料,随着汽车性能要求的不断提高,越来越多的厂家也已逐步使用该材料,其应用前景非常普遍。聚四氟乙烯材料各方面性能优异,耐高温,耐腐蚀、不粘、自润滑、优良的介电性能、很低的摩擦系数,但未经处理的PTFE材料表面活性差,其一端与金属之间的粘接非常困难,产品无法满足质量要求。为了解决这一技术上的难题,就要设法改变PTFE(聚四氟乙烯)与金属粘接的表面性能,而不能影响另一面的性能。工业中用莱钠溶液处理虽然能在一定程度上提高粘接效果,但是却改变了原有PTFE的性能。邵阳全自动真空超声波清洗机等离子清洗机的清洗效果好,效率高,运行成本低。

等离子清洗机的作用原理,主要是通过等离子体作用于材料表面使其产生一系列的物理、化学变化,利用其中所包含的活性粒子和高能射线,与表面有机污染物分子发生反应、碰撞形成小分子挥发性物质,从表面移除,实现清洁效果。在真空腔体里,通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体,通过等体子体轰被清洗产品面.以达到清洗目的。水滴测试仪是目前等离子清洗效果评估较为常见、业界较为认可的检测方法。测试数据准确、操作简捷、重复性和稳定性高。

等离子清洗机能针对各种饮料瓶盖、酒瓶盖、化妆品瓶、香水瓶盖难粘的特点,提供专业的表面改性设备,经过处理后,大幅度的提高了其表面附着力,其表面具有高光洁、高硬度及耐磨、耐溶解性,管材表面处理,增加印字的附着力,用于管材表面处理的等离子表面处理器,用于喷码前对管材表面进行预处理,使管材表面变得粗糙,从而大幅提升了喷码墨水的附着力。经过预处理后的管材印字可以做到用透明胶带粘接不掉的出口产品印字要求。处理速度较快可达二十至三十米/分钟。等离子清洗机具有产率高的特点。

等离子清洗机的表面处理技术能够很好的清理碳化物。由于工艺原因,半导体制造需要一些有机和无机物质参与,半导体晶片不可避免地会受到各种杂质的污染。根据污染物的来源和性质,大致可以分为这几类:颗粒、有机物、金属离子和氧化物等。在不破坏晶圆芯片及其他所用材料的表面特性、热学特性和电学特性的前提下,清洗去除晶圆芯片表面的有害沾污杂质物,对半导体器件功能性、可靠性、集成度等显得尤为重要。在密闭的真空腔体中,通过真空泵不断抽气,使得压力值逐渐变小,真空度不断提高,间距被拉大,分子间作用力越来越小,利用等离子发生器产生的高压交变电场将Ar、H2、N2、O2、CF4等工艺气体激发、震荡形成具有高反应活性或高能量的等离子体,进而与有机污染物及微颗粒污染物反应或碰撞形成挥发性物质,由工作气体流及真空泵将这些挥发性物质清理出去,从而达到表面清洁、活化、刻蚀等目的。等离子清洗需要控制的真空度约为100Pa,这种清洗条件很容易达到。张家港工业超高压清洗机

等离子清洗机是清洗表面的有机物。荔湾工业超高压清洗机

根据污染物的来源和性质,大致可以分为四类:颗粒、有机物、金属离子和氧化物等。在不破坏晶圆芯片及其他所用材料的表面特性、热学特性和电学特性的前提下,等离子清洗机清洗去除晶圆芯片表面的有害沾污杂质物,对半导体器件功能性、可靠性、集成度等显得尤为重要。在密闭的真空腔体中,通过真空泵不断抽气,使得压力值逐渐变小,真空度不断提高,间距被拉大,分子间作用力越来越小,利用等离子发生器产生的高压交变电场将Ar、H2、N2、O2、CF4等工艺气体激发、震荡形成具有高反应活性或高能量的等离子体,进而与有机污染物及微颗粒污染物反应或碰撞形成挥发性物质,由工作气体流及真空泵将这些挥发性物质去除出去,从而达到表面清洁、活化、刻蚀等目的。荔湾工业超高压清洗机

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