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台州hs-601底部填充胶厂家 东莞市汉思新材料供应

信息介绍 / Information introduction

底部填充胶的硬度:这个指标往往山寨厂比较关注,很多时候他们只需要胶水能流过去,固化后用指甲掐掐硬度,凭感觉判断一下(在他们眼中貌似越硬越好)。这个其实和胶水本身的体系有较大的关系,所以有时候习惯了高硬度的客户初次使用时总担心没固化完全。 底部填充胶的阻抗:这个指标也只是在一个比较较真的客户那里碰到,台州hs-601底部填充胶厂家,关于阻抗的定义大家可以去具体搜索相关信息(阻抗),当时的情况是我们提供的一款胶水在液态是有阻抗,而固化后没有,客户提出了质疑,我觉得我们的研发回答得还是比较在理的(产生阻抗的原因主要是该体系底填胶中某些组分在外加电场作用下极化现象引起的,未加热前,体系中某些组分因外加交变电场产生的偶极距较大,因此有一定阻抗,加热后,产生偶极距的组分发生了化学反应,反应后的产物偶极距非常小,因此阻抗很小甚至不能检测出),台州hs-601底部填充胶厂家,台州hs-601底部填充胶厂家,当时也说服了客户进行下一步的测试。不过迄今为止还没有第二个客户提出过类似的问题。底部填充胶underfill的系统性介绍。台州hs-601底部填充胶厂家

底部填充胶加热之后可以固化,一般固化温度在80℃-150℃。底部填充胶简单来说就是底部填充之义,常规定义是一种用化学胶水(主要成份是环氧树脂)对BGA 封装模式的芯片进行底部填充,利用加热的固化形式,将BGA 底部空隙大面积 (一般覆盖一般覆盖80%以上)填满,从而达到加固的目的。底部填充胶的应用原理是利用毛细作用使得胶水迅速流过BGA 芯片底部芯片底部,其毛细流动的较小空间是10um。这也符合了焊接工艺中焊盘和焊锡球之间的较低电气特性要求,因为胶水是不会流过低于4um的间隙,所以保障了焊接工艺的电气安全特性。东莞电子产品填充胶公司底部填充胶除起加固作用外,还有防止湿气、离子迁移的作用。

底部填充胶空洞产生的原因: 流动型空洞,都是在underfill底部填充胶流经芯片和封装下方时产生,两种或更多种类的流动波阵面交会时包裹的气泡会形成流动型空洞。 流动型空洞产生的原因 ①与底部填充胶施胶图案有关。在一块BGA板或芯片的多个侧面进行施胶可以提高底填胶流动的速度,但是这也增大了产生空洞的几率。 ②温度会影响到底部填充胶的波阵面。不同部件的温度差也会影响到胶材料流动时的交叉结合特性和流动速度,因此在测试时应注意考虑温度差的影响。 ③胶体材料流向板上其他元件时,会造成下底部填充胶材料缺失,这也会造成流动型空洞。 流动型空洞的检测方法 采用多种施胶图案,或者采用石英芯片或透明基材板进行试验是了解空洞如何产生,并如何消除空洞的较直接的方法。通过在多个施胶通道中采用不同颜色的下填充材料是使流动过程直观化的理想方法。 流动型空洞的消除方法 通常,往往采用多个施胶通道以降低每个通道的填充量,但如果未能仔细设定和控制好各个施胶通道间的时间同步,则会增大引入空洞的几率。采用喷射技术来替代针滴施胶,控制好填充量的大小就可以减少施胶通道的数量,同时有助于对下底部填充胶流动进行控制和定位。

如何选择合适的底部填充胶?流动性:底部填充胶应用原理是利用毛细作用使得胶水迅速流过BGA 或PCB芯片底部芯片底部,其毛细流动的至小空间是10um。根据毛细作用原理,不同间隙高度和流动路径,流动时间也不同,因此不同的填充间隙和填充路径所需填充时间不同,从而容易产生“填充空洞”。为更直观的评估胶水流动性能,可采用以下方法评估胶水流动性:将刻有不同刻度的载玻片叠在PCB板的上方,中间使用50um的垫纸,使载玻片与PCB间留有间隙,在载玻片一端点一定量胶水,测试胶水流动不同长度所需的时间。由于胶水流动性将随温度变化而变化,因此,此实验可在加热平台上进行,通过设置不同温度,测试不同温度下胶水流动性。一般底填胶的Tg值不超过100度的。

底部填充胶的使用要求和施胶方法: 1.在设备的设定其间,确保没有空气传入产品中; 2.为了得到较好的效果,基板应该预热(一般40℃约20秒)以加快毛细流动和促进流平; 3.以适合速度(2.5~12.7mm/s)施胶.确保针嘴和基板及芯片的边缘的距离为0.025~0.076mm,这可确保底部填充胶的较佳流动; 4.施胶的方式一般为"I"型沿一条边或"L"型沿两条边在角交叉.施胶的起始点应该尽可能远离芯片的中心,以确保在芯片的填充没有空洞.施胶时"I"型或"L"型的每条胶的长度不要超过芯片的80%; 5.在一些情况下,也许需要在产品上第二或第三次施胶。底部填充胶的应用原理是利用毛细作用使得胶水迅速流入BGA芯片底部芯片底部。芯片粘合胶水怎么用

底部填充胶(underfill)中空洞的去除方法。台州hs-601底部填充胶厂家

将底部填充胶喷射到窄缝内: 随着晶圆上芯片数量的增加,芯片之间的间隙变得越来越窄,一直减小到几百微米。同时,为了实现小型化目标,芯片下方的凸点高度持续减小,一直降至几十微米。必须将大量的底部填充胶准确地输送到芯片之间,并使其在每个芯片下的凸点周围流动。这些狭窄的空间和紧凑的几何形状需要采用一种新的底部填充点胶工艺方法。 了解挑战: 向窄缝内点胶时,底部填充胶的总量通常会被分布到多个点胶循环上,每个循环将输送少量流体,从而留出使流体在芯片下方流动的时间。然而,为了实现提高每小时晶圆产出量的更终目标,必须使总的大胶量快速充满,即使每次用很小的胶量。 第二大挑战是:如果射流不够窄或无法进行精确控制的情况下,芯片或其它元件的顶部出现流体污染,如何防止? 为了克服这一限制,必须利用纤细狭窄的液流在高频下喷射底部填充胶。台州hs-601底部填充胶厂家

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