等离子清洗机可以清洗外壳在注塑时留下的油污，更能较大程度的活化塑料外壳表面，钟楼芯片封装清洗，增强其印刷、涂覆等粘接效果，使得外壳上涂层与基体之间非常牢固地连接，涂覆效果非常均匀，外观更加亮丽，并且耐磨性增强，钟楼芯片封装清洗，长时间使用也不会出现磨漆现象。在**行业：航空航天电连接器，电连接器中的绝缘体与封线体之间的粘接效果一直影响着国产电连接器的发展，钟楼芯片封装清洗，尤其在航空航天中对电连接器的要求更苛刻，未经表面处理的绝缘体与封线体之间的粘接效果非常差，即使使用专属配方的胶，其粘接效果也达不到要求。等离子清洗机采用无线电波范围的高频产生的等离子体与激光等直射光线不同。钟楼芯片封装清洗

等离子清洗机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。等离子清洗机也叫等离子清洁机，或者等离子表面处理仪，是一种全新的高科技技术，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态，也叫做物质的第四态，并不属于常见的固液气三态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括：离子、电子、原子、活性基团、激发态的核素（亚稳态）、光子等。六合等离子清洗机HX-60-QXJ等离子清洗机涂覆效果非常均匀，外观更加亮丽，并且耐磨性增强。

等离子清洗机的表面处理技术能够很好的清理碳化物。由于工艺原因，半导体制造需要一些有机和无机物质参与，半导体晶片不可避免地会受到各种杂质的污染。根据污染物的来源和性质，大致可以分为这几类：颗粒、有机物、金属离子和氧化物等。在不破坏晶圆芯片及其他所用材料的表面特性、热学特性和电学特性的前提下，清洗去除晶圆芯片表面的有害沾污杂质物，对半导体器件功能性、可靠性、集成度等显得尤为重要。在密闭的真空腔体中，通过真空泵不断抽气，使得压力值逐渐变小，真空度不断提高，间距被拉大，分子间作用力越来越小，利用等离子发生器产生的高压交变电场将Ar、H2、N2、O2、CF4等工艺气体激发、震荡形成具有高反应活性或高能量的等离子体，进而与有机污染物及微颗粒污染物反应或碰撞形成挥发性物质，由工作气体流及真空泵将这些挥发性物质清理出去，从而达到表面清洁、活化、刻蚀等目的。

等离子清洗机/刻蚀机产生等离子体的装置是在密封容器中设置两个电极形成电场，用真空泵实现一定的真空度，随着气体愈来愈稀薄，分子间距及分子或离子的自由运动距离也愈来愈长，受电场作用，它们发生碰撞而形成等离子体，这些离子的活性很高，其能量足以破坏几乎所有的化学键，在任何暴露的表面引起化学反应，不同气体的等离子体具有不同的化学性能，如氧气的等离子体具有很高的氧化性，能氧化光刻胶反应生成气体，从而达到清洗的效果；腐蚀性气体的等离子体具有很好的各向异性，这样就能满足刻蚀的需要。等离子清洗机清洗并不会破坏被处理的材料或者产品的固有特性。

等离子清洗机是专门用于无纺布电缆等细长件的表面处理，根据不同需要，无纺布在生产制作过程中要在表面进行阻燃处理、烧毛处理、泼水处理、止滑处理、抗静电处理、涂层处理、防臭处理、印花处理、无纺布与各种纺织品的针刺复合处理，以及无纺布与各种材料(塑料、胶膜、纺织品等)粘合等，为了达到非常好的印花、粘合等效果，需要对无纺布基体进行表面处理。腐蚀性气体的等离子体具有很好的各向异性，这样就能满足刻蚀的需要。利用等离子处理时会发出辉光，故称之为辉光放电处理。用等离子清洗机处理不同材料需要选用不同工艺参数，才能达到更好的活化效果。钟楼芯片封装清洗

等离子清洗机清洗能够避免使用三氯乙烷等有害溶剂，不会产生有害污染物，从而进行环保的绿色清洗。钟楼芯片封装清洗

等离子清洗机已应用于各种电子元件的制造，可以确信，没有等离子清洗机及其清洗技术，就没有现在这么发达的电子、资讯和通讯产业。此外，等离子清洗机及其清洗技术也应用在光学工业、机械与航天工业、分子工业、污染防治工业和量测工业上，而且是产品提升的关键技术，比如说光学元件的镀膜、延长模具或加工工具寿命的抗磨耗层，复合材料的中间层、织布或隐性镜片的表面处理、微感测器的制造，超微机械的加工技术、人工关节、骨骼或心脏瓣膜的抗摩耗层等皆需等离子技术的进步，才能开发完成。清洗机近20年的研发及推广应用，已取得了较成功的经验。钟楼芯片封装清洗

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