真空镀膜机镀膜行业的术语： 1.标准环境条件 standard ambient condition： 温度为20℃，相对湿度为65%，大气压力为101325Pa=1013.25mbar=760Torr。 2.气体的标准状态 standard reference conditions for gases：温度为0℃，压力为：101325Pa。 3.压力（压强）p pressure：气体分子从某一假想平面通过时，温州真空镀膜设备哪家可靠，沿该平面的正法线方向的动量改变率，除以该平面面积或气体分子作用于其容器壁表面上的力的法向分量，除以该表面面积。注：“压力”这一术语只适用于气体处于静止状态的压力或稳定流动时的静态压力。 4.帕斯卡Pa pascal：国际单位制压力单位，1Pa=1N/m2。 5.托Torr torr：压力单位，1Torr=1/760atm。 6.标准大气压atm standard atmosphere：压力单位，1atm=101325Pa，温州真空镀膜设备哪家可靠。 7.毫巴mbar millibar：压力单位，1mbar=102Pa。 8，温州真空镀膜设备哪家可靠.分压力 partial pressure：混合气体中某一组分的压力。PVD镀膜加工工艺流程比较长、工序繁多，发生故障的影响因素会很多。温州真空镀膜设备哪家可靠

日常我们也会见到磁控溅射真空镀膜机镀膜薄膜出现不均匀的问题，一般我们处理方法，时首先是要尽量保证磁场的均匀性和方向一致性，形成一个相对均匀的空间磁场。然后，要尽量保证气压上下的均匀性，真空腔体设计时，要考虑真空泵的安装位置，和工艺气体进气方式以及腔体内工艺气管的布局。后由于磁场和气压都不可能相对理想，那么就可以通过气压的不均匀来补偿磁场不均匀，让终薄膜均匀一致。后，靶基距也是影响溅射镀膜薄膜均匀性的重要因素温州真空镀膜设备哪家可靠真空镀膜设备在重新开机前，要注意检漏工作。

镀膜主要是为了减少反射。为了提高镜头的透光率和影像的质量，在现代镜头制造工艺上都要对镜头进行镀膜。镜头的镀膜是根据光学的干涉原理，在镜头表面镀上一层厚度为四分之一波长的物质(通常为氟化物)，使镜头对这一波长的色光的反射降至低。显然，一层膜只对一种色光起作用，而多层镀膜则可对多种色光起作用。多层镀膜通常采用不同的材料重复地在透镜表面镀上不同厚度的膜层。多层镀膜可大幅度提高镜头的透光率，例如，未经镀膜的透镜每个表面的反射率为5%，单层镀膜后降至2%，而多层镀膜可降至0.2%，这样，可大幅度减少镜头各透镜间的漫反射，从而提高影像的反差和明锐度。

抽真空系统，目前基本是两种，一种是扩散泵系统，一种是分子泵系统，分子泵系统属于清洁抽气系统，没有扩散泵的返油现象，抽速也相对比较稳定，而且比较省电，电费的支出是镀膜企业生产运营成本中很大的一环。对于泵系统的定期维护是很重要的，特别是润滑油的定期更换，注意油品牌号的选择，选择错误很容易损坏真空泵。真空检测系统，目前基本都是用复合真空计，热偶规+电离规的组合，这个组合在遇到充入大量含有C元素的气体的工艺，电离规很容易毒化，造成电离规损坏，如果镀制含有大量C元素的气体的工艺，可以考虑，配置电容薄膜规。严格处理真空镀膜设备衬底材料，做到清洁干净，合乎工艺要求。

如果是说镀膜时为了调节压力使用的气体 个人认为如下：氩气如果只是节压力，一次压可以不计，但是二次压要小于0.5个大气压。氮气也是，主要是因为如果大了，会导致真空仓内的压力变化太剧烈，导致误差。如果是使用离子源，那么氩气入气量不宜过大的，大了导致离子量过大，烧坏部件。压力和上边没什么差别。 任何固体材料在大气环境下都会溶解和吸附一些气体，当材料置于真空状态时就会因为脱附、解析而出气。出气的速率与材料中的气体含量成正比。不同的材料解析的气体成分及解析的温度及时间是不同的。真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜。温州真空镀膜设备哪家可靠

真空镀膜跟传统镀膜工艺相比，有很多优点。温州真空镀膜设备哪家可靠

真空镀膜机平衡磁控溅射和非平衡磁控溅射： 真空镀膜机平衡磁控溅射即传统的磁控溅射，是在阴极靶材背后放置芯部与外环磁场强度相等或相近的永磁体或电磁线圈，在靶材表面形成与电场方向垂直的磁场。沉积室充入一定量的工作气体，通常为Ar，在高压作用下Ar 原了电离成为Ar+离子和电子，产生辉光放电，Ar+ 离子经电场加速轰击靶材，溅射出靶材原子、离子和二次电子等。 真空镀膜机电子在相互垂直的电磁场的作用下，以摆线方式运动，被束缚在靶材表面，延长了其在等离子体中的运动轨迹，增加其参与气体分子碰撞和电离的过程，电离出更多的离子，提高了气体的离化率，在较低的气体压力下也可维持放电，因而磁控溅射既降低溅射过程中的气体压力，也同时提高了溅射的效率和沉积速率。温州真空镀膜设备哪家可靠

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