化学镍金生产有使用硫酸双氧水或酸性过硫酸钾微蚀液来进行的。由于铜离子对微蚀速率影响较大，通常须将铜离子的浓度控制有5~25g/L，以保证微蚀速率处于0.5~1.5μm，生产过程中，换缸时往往保留1/5~1/3缸母液(旧液)，以保持一定的铜离子浓度，也有使用少量氯离子加强微蚀效果。另外，由于带出的微蚀残液，会导致铜面在水洗过程中迅速氧化，所以微蚀后水质和流量以及浸泡时间都须特别考虑。否则，预浸缸会产生太多的铜离子，无锡铜面键合剂，无锡铜面键合剂，继而影响钯缸寿命，无锡铜面键合剂。化学镀使用范围很广，镀金层均匀、装饰性好。无锡铜面键合剂

由于目前所有的焊料都是以锡为基础的，所以锡层能与任何类型的焊料相匹配。从这一点来看，PCB药液浸锡工艺极具有发展前景。但是以前的PCB经浸锡工艺后出现锡须，在焊接过程中锡须和锡迁徙会带来可靠性问题，因此浸锡工艺的采用受到限制。后来在浸锡溶液中加入了有机添加剂，可使得锡层结构呈颗粒状结构，克服了以前的问题，而且还具有好的热稳定性和可焊性。浸锡工艺可以形成平坦的铜锡金属间化合物，这个特性使得浸锡具有和热风整平一样的好的可焊性而没有热风整平令人头疼的平坦性问题；浸锡也没有化学镀镍/浸金金属间的扩散问题——铜锡金属间化合物能够稳固的结合在一起。浸锡板不可存储太久，组装时必须根据浸锡的先后顺序进行。常州电路板沉铜药水清洗印制电路板的传统方法是用有机溶剂清洗。

影响钯缸稳定性的主要原因除了PCB药水系列不同之外，钯缸控制温度和钯离子浓度则是首要考虑的问题。温度越低，钯离子浓度越低，越有利于钯缸的控制。但不能太低，否则会影响活化效果，引起漏镀发生。通常情况下，钯缸温度设定在20~30℃，其控制范围应在±1℃，而钯离子浓度则控制在20~40ppm，至于活化效果，则按需要选取适当的时间。当槽壁及槽底出现灰黑色的沉积物，则需硝槽处理。其过程为﹕加入1﹕1硝酸，启动循环泵2小时以上或直到槽壁灰黑色沉积物完全除去为止。

化学镀镍PCB药液溶液中的络合剂除了能控制可供反应的游离镍离子的浓度外，还能压制亚磷酸镍的沉淀，提高镀液的稳定性，延长镀液的使用寿命。有的络合剂还能起到缓冲剂和促进剂的作用，提高镀液的沉积速度。化学镀镍的络合剂一般含有羟基、羧基、氨基等，常用的络合剂有柠檬酸钠、酒石酸钠等。化学镀镍的反应过程是一个自催化的氧化还原过程，镀液中可应用的还原剂有次亚磷酸钠、硼氢化钠、烷基胺硼烷及肼等。在这些还原剂中以次亚磷酸钠用的较多，这是因为其价格便宜，且镀液容易控制，镀层抗腐蚀性能好等优点。电镀药液有分为金属电镀药液与塑料电镀药液的，金属电镀药液有镀锌，镀铜，镀镍，锌镍合金等。

PCB药液电镀的前处理柔性印制板FPC经过涂覆盖层工艺后露出的铜导体表面可能会有胶黏剂或油墨污染，也还会有因高温工艺产生的氧化、变色，要想获得附着力良好的紧密镀层必须把导体表面的污染和氧化层去除，使导体表面清洁。但这些污染有的和铜导体结合十分牢固，用弱的清洗剂并不能完全去除，因此大多往往采用有一定强度的碱性研磨剂和抛刷并用进行处理，覆盖层胶黏剂大多都是环氧树脂类而耐碱性能差，这样就会导致粘接强度下降，虽然不会明显可见，但在FPC电镀工序，镀液就有可能会从覆盖层的边缘渗入，严重时会使覆盖层剥离。在较终焊接时出现焊锡钻人到覆盖层下面的现象化学镀工艺的形成与理论的完善也只有近20-30年的历史。常州电路板沉铜药水

线路电镀中阳极的耗铜量较少，在蚀刻过程中需要去除的铜也较少。无锡铜面键合剂

去除前工序(主要指绿油)残留在板面的药水渍或严重氧化等铜面杂物，防止化学镍金出现由前工序引起的甩镍﹑金面颜色不良﹑渗镀等问题。需要注意的是，前处理若使用了水平微蚀剂，沉镍金制程中的微蚀缸仍需保留，但微蚀率达到0.5μm即可，否则易造成铜厚不足的问题。后处理：由于沉镍金表面正常情况下光洁度和平整度很好，所以轻微的金面氧化或水渍都会使金面颜色变得很难看。而沉镍金生产线纵然控制到较佳，也只能杜绝金面氧化，对于烘干缸因水珠而遗留的水渍实在是无能为力。无锡铜面键合剂

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