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河南海洋光学的微型光谱仪 **** 蔚海光学仪器供应

信息介绍 / Information introduction

将光谱仪连接到电脑上,打开SpectraSuite或OceanView软件,看到采集到的图谱后,在屏幕左边找到光谱仪,打开相关信息即可看到光谱仪具体配置,河南海洋光学的微型光谱仪。确认光谱仪和电脑连接并在软件中读数,将光谱仪的光入口对准一个日光灯,河南海洋光学的微型光谱仪,看是否出现有400nm左右,600nm左右等位置有没有日光灯的特征峰来确认光谱仪是否正常工作。请按照下面简单步骤进行光谱获取:设置积分时间(积分时间越长,光谱信号越强),设置平均次数(平均会降低总噪音),勾选扣除暗噪音(暗噪音扣除对于线性和杂散光校正来说非常重要,这样会使零基线(接近)成为可能。),河南海洋光学的微型光谱仪,勾选非线性校正(可选,参考和样品测试时若积分时间不一致,此选项必须勾选),校正杂散光(可选),设置Boxcar平滑次数进行新的暗光谱扣除,开始测量。谨记:如果你修改了积分时间或平均次数或Boxcar,你一定要重新扣背景,做到这一点,才能确保线性校正。海洋光学发明了微型光谱仪,而且依靠技术创新,始终站在市场前端,推出一个又一个具有里程碑意义的产品。河南海洋光学的微型光谱仪

HR光谱仪是一种占地小,高分辨率的光谱仪,用于激光和led的波长表征,气体和单色光源的监测,以及元素原子发射线的测定。根据光谱仪的配置,光学分辨率可能小于0.1nm(半宽波长)。新型HR4Pro预配置光谱仪结构紧凑,分辨率高,具有低杂散光性能和较好的热稳定性,适用于实验室、现场和工艺环境。凭借强大的光学台设计和优化的组件,与类似的小台光谱仪相比,HR4Pro的热稳定性提高了10倍。预配置:UV-Vis(200-875nm),Vis-NIR(350-1025nm)和(200-1100nm)测量。优势科研用户:•预先配置的单元利于选型•低杂散光确保可靠的结果•以小平台的价格实现大工作台的光学分辨率性能工业集成用户:•灵活的触发功能,使光谱仪与其他设备同步•热稳定性提高10倍•拥有优异的光学分辨率,是整合到其他设备中的理想选择河南海洋光学的微型光谱仪小积分时间是设备支持的短积分时间,取决于检测器读出所有像素信息的快慢,与数据传输速度概念不同。

在分析光谱峰时,半峰宽(FWHM)是一个描述波峰的形状和总值的有效方式。半峰宽是由波峰强度为峰值最大值一半处的两边两个最大值的波长差计算得到的。它不但能测量波峰高度,也可以测量波峰宽度。同样的,四分钟一峰宽(FWQM)也可以用来描述波峰的传播。此外半峰宽也可以用来表示光谱仪的分辨率,它与光栅的波长范围、检测器的像素数、狭缝宽度都有关系。半峰宽是值强度为峰值最大值一半处的波长差,同时半峰宽也是光谱仪分辨率的表征,它跟光栅的光谱范围、检测器的像素数量以及狭缝的宽度都有关系。详细可参考光谱分辨率

OceanHDXRaman是款专门为785nm拉曼应用而设计的微型光谱仪,可覆盖lSOcm-1-3400cm-1的测景范围。OceanHDXRaman有25µm和SOµm狭缝可供选择,可搭配激光器、探头和样品支架用于测景固体、粉末和液体样品。OceanHDXRaman的应用范围从烈洒鉴定、聚合物鉴定和药物成分表征均有涉及。OceanHDXRaman较低的价格可满足更多用户的需求,包括预算有限的科研高校实验室和初创公司等。此外,OceanHDXRaman还因其体积小、重量轻、热稳定性好和以太网通讯等优势,是工业应用和系统集成的良好选择。在可见光至近红外波段,地表物体自身的热辐射几乎为零。

NIRQuest+高灵敏度检测下限的性能优良的测量精度,特别是在低光条件下热电冷却到-20C低暗电流高信噪比集成周期短,适合快速测量样品在生产线兼容我们的光源和配件,确保良好的实验设计。NIRQuest+增强光学台和孔径设计,改善了光谱仪的响应,允许更低的检测极限(LOD)。在检测较弱的近红外光源时,由于灵敏度的提升,弱光条件下信噪比得以优化,使用较短的积分时间来捕获必要的光谱,从而拓宽了检测极限。在流水线或流动液体样品检测时具有很大优势。量子效率是衡量检测器能够响应入射光子产生电子的能力。更高的量子效率值意味着检测器更灵敏。河南海洋光学的微型光谱仪

自动归零是用来调整光谱仪的基线回归,对于特定的光谱仪,可以把基线回归到用户指定的水平。河南海洋光学的微型光谱仪

光纤光谱仪因其快速、无损、原位测量的特点,在半导体行业广受青睐。海洋光学作为微型光纤光谱仪的发明者,在此领域也积累了一定的经验。从等离子体刻蚀到晶圆膜厚测量,光纤光谱仪都有一定的应用。光纤光谱仪测膜厚的优势与特点:采样速度快,适用于工业在线实时测量。非接触式光学无损测量。灵活、体积小,重量轻,USB连接方式即插即用。可根据需求,定制不同波段的光谱仪。可测多层膜厚。半导体工业中,我们通过光刻技术制造和控制晶圆。其中蚀刻是该过程的主要环节,当在晶圆表面蚀刻时,可使用等离子体监测蚀刻穿过晶圆层,并确定等离子体何时完全蚀刻特定层并到达下一层。通过监测在蚀刻期间由等离子体产生的发射线,可精确追踪蚀刻过程。河南海洋光学的微型光谱仪

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