真空多弧离子镀膜机在不锈钢上镀TIC多弧阴极根据靶材的不同，能够稳定工作的电流是不一样的，例如:如果是Cr靶，可以在60A左右就可以稳定工作，Ti靶在70A左右可以稳定工作，淮安真空镀膜设备生产商，Zr的稳弧电流稍高一些，大约在100A左右，阴极的工作电压在20V-30V之间。 镀膜时，比如你要做TIC黑膜，就必须选用Ti靶，淮安真空镀膜设备生产商，TI的工作电流在70A，工作电压在25V左右，需要向真空室内充入C2H2气体，镀膜时的真空度要保持在0.5Pa左右，一般情况下，是用分子泵或者扩散泵来抽取这些气体，使得真空室保持一定的压力，此时的滑阀泵和罗茨泵充当分子泵或者扩散泵的前级泵，淮安真空镀膜设备生产商，是一直要开着的。真空镀膜设备具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延等很多种。淮安真空镀膜设备生产商

磁控溅射真空镀膜机镀膜薄膜均匀性是一项重要指标，因此有必要研究影响磁控溅射均匀性的影响因素，以便更好的实现磁控溅射均匀镀膜。简单的说磁控溅射就是在正交的电磁场中，闭合的磁场束缚电子围绕靶面做螺旋运动，在运动过程中不断撞击工作气体氩气电离出大量的氩离子，氩离子在电场作用下加速轰击靶材，溅射出靶原子离子（或分子）沉积在基片上形成薄膜。所以要实现均匀的镀膜，就需要均匀的溅射出靶原子离子（或分子），这就要求轰击靶材的氩离子是均匀轰击的。由于氩离子是在电场作用下加速轰击靶材，所以要求电场均匀。但是实际的磁控溅射装置中，某些因素都是很难完全相对的均匀，这就有必要研究他们不均匀对成膜均匀性的影响。实际上磁场的均匀性和工作气体的均匀性是影响成膜均匀性的主要因素。磁场大的位置膜厚，反之膜薄，磁场方向也是影响均匀性的重要因素。气压方面，在一定气压条件下，气压大的位置膜厚，反之膜薄。淮安真空镀膜设备生产商在真空离子镀膜设备工作中，所选用不同气体所生产出来的，液态气体色泽也会不一样。

目前真空镀膜机应用于光学，眼镜，塑料薄膜、金属、灯具、陶瓷、玻璃、廉价塑料，陶瓷，以及各种塑料玩具、塑料日用装饰品、人造首饰、圣诞装饰品、家用电器装饰、电器仪表的表面金属化镀膜，真空镀膜机运用非常普遍。我们接触到的客户常常存在这样的困惑，在产品镀制膜层需求量大了之后，知道自己的产品需要镀什么材质，也知道在材料上要镀一层膜，但国内外镀膜机制造商实在太多，镀膜机对于整个产品的加工有重大的影响，需要采购，然而自己却不知道要采购什么真空镀膜机好，更是不知道如何下手采购一台适合自己公司的真空镀膜机。

观察真空离子镀膜机靶阴极电弧的燃烧情况，每当电弧熄灭前，总是发现电弧弧斑极为粗糙。有时甚至出现堆团状弧斑。熄灭后观察靶面已发红，靶表面温度很高。粗糙弧斑的出现，使弧电流较集中于靶面一点，导致了弧斑下靶面斑点电流过于集中，使弧斑下的靶面温度更高而产生大量的热电子发射。靶面局部大量的热电子发射的结果，一方面中和了大量的空间电荷，使阴极表面上的电场成为减速场，甚至导致阴极表面上的电场等于零。另一方面，大量的热电子发射对阴极表面产生相当大的冷却作用。结果既没有空间电荷产生的强大电场来维持表面发射，也不具备极高的表面温度来产生热电子发射，导致电弧的熄灭。所以在真空镀膜机多弧靶源的设计中，应注意给阴极靶以充分的冷却，好采用直接水冷，间接水冷时，阴极座等相邻部件应选用导热性能良好的材料（如铜、铝等）降低真空镀膜设备室内空气流动性低、尽量减小室外灰尘侵入。

真空镀膜的泵组选配时，主泵选择是一个关键点。主泵的选择不能只追求单一方面的指数，它必须根据使用条件考虑多项指标。通过实际镀膜生产过程所需的工作压力进行主泵的选择：此要求作为主泵选取的首要要点，由于真空室的工作压力一定要能够保证在主泵较佳抽速的压力范围中间，因此需要掌握主泵较佳抽速的压力范围，而主泵抽速是以工艺生产中放出的气量、所需工作压力、系统漏气量等因素决定。主泵的有效抽速计算涉及到真空室的要求工作压力以及真空室的总气量等因素。想要增大主泵的有效抽速就必须先增大流导，所以设计连接管道得短且粗，且管道直径一般要大于主泵入口直径。真空镀膜设备需检查联接处是否装密封胶圈，或压坏密封圈。淮安真空镀膜设备生产商

要防止油带入真空室内，注意油扩散泵返油，对加热功率高的扩散泵必须 采取挡油措施。淮安真空镀膜设备生产商

薄膜均匀性概念 1.厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位，约为100A)，真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。 2.化学组分上的均匀性: 就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，SiTiO3薄膜，如果镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。 具体因素也在下面给出。 3.格有序度的均匀性: 这决定了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜技术中的热点问题， 主要分类有两个大种类: 蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜，具体则包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，溶胶凝胶法等等。淮安真空镀膜设备生产商

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