磁控溅射技术应用中存在的问题及思考 随着科技和经济社会的发展，人们对磁控溅射技术提出了更高的要求，其存在的不足也日益显现。人们也正不断深入研究、改进完善这项技术。 一个重要问题是靶材的利用率较低，这对工业生产的成本控制是不利的。靶材是磁控溅射中基本的耗材，靶材不只消耗量大，而且靶材的利用率高低对整个工艺过程、效果以及工艺周期都有相当大的影响。然而，由于目前对于大多数磁控溅射设备，溅射靶材在溅射过程中总会产生不均匀冲蚀的现象。一旦靶材被击穿，就会报废。由此造成的靶材利用率一直较低，一般在30%以下。虽然靶材能够回收再利用，但其仍然对企业成本控制以及产品竞争力有很大的影响，湖州磁控镀膜机可以定制吗。 为了提高靶材利用率，目前国内磁控镀膜研究的主要方向还是集中在磁场的优化设计上，针对别的领域例如靶材冷却系统的设计仍较少，湖州磁控镀膜机可以定制吗。目前常用的方法是采用旋转磁场增加溅射面积等通过改变平面靶结构来提高靶材的利用率，取得了较好成效。在磁控溅射时，湖州磁控镀膜机可以定制吗，可以看见溅射气体——氩气在这部位发出强烈的淡蓝色辉光，形成一个光环。湖州磁控镀膜机可以定制吗

磁控溅射镀膜注意事项： 1、辐射:有些镀膜要用到射频电源,如功率大,需做好屏蔽处理.另外,欧洲标准在单室镀膜机门框四周嵌装金属线屏蔽辐射;2、金属污染:镀膜材料有些(如铬、铟、铝)是对人体有害的,特别要注意真空室清理过程中出现的粉尘污染;3、噪音污染:如特别是一些大的镀膜设备,机械真空泵噪音很大,可以把泵隔离在墙外;4、光污染:离子镀膜过程中,气体电离发出强光,不宜透过观察窗久看.磁控溅射镀膜的适在 1、建材及民用工业中。 2、在铝合金制品装饰中的应用。 3、前端产品零/部件表面的装饰镀中的应用。 4、在不锈钢刀片涂层技术中的应用。 5、在玻璃深加工产业中的应用。湖州磁控镀膜机可以定制吗磁控镀膜设备采用中频磁控溅射及多弧离子相结合技术，适用于塑胶、玻璃、陶瓷、五金等产品。

为了解决缺陷，人们在20世纪70年代替开发出了直流磁控溅射技术，它有效地克服了阴极溅射速率低和电子使基片温度升高的弱点，因而获得了迅速发展和普遍应用。　其原理是：在磁控溅射中，由于运动电子在磁场中受到洛仑兹力，它们的运动轨迹会发生弯曲甚至产生螺旋运动，其运动路径变长，因而增加了与工作气体分子碰撞的次数，使等离子体密度增大，从而磁控溅射速率得到很大的提高，而且可以在较低的溅射电压和气压下工作，降低薄膜污染的倾向；另一方面也提高了入射到衬底表面的原子的能量，因而可以在很大程度上改善薄膜的质量。同时，经过多次碰撞而丧失能量的电子到达阳极时，已变成低能电子，从而不会使基片过热。因此磁控溅射法具有“高速”、“低温”的优点。该方法的缺点是不能制备绝缘体膜，而且磁控电极中采用的不均匀磁场会使靶材产生明显的不均匀刻蚀，导致靶材利用率低，一般只为20%-30%。

真空镀膜设备增加塑胶表面的硬度；塑胶材料易成型的特性决定了其表面不具备良好的耐刮伤性能，UV真空电镀在镀膜完成后，还在镀膜层表面加罩了一层光固化UV涂料，大幅度提升了产品表面的硬度，提升了产品的耐刮花、耐划伤、耐磨性能，大可以达到4H级别的硬度，远远超出水电镀工艺的抗刮伤耐磨级别。同时具有优良的环境耐候性能；真空电镀工艺可以赋予产品更加优良的耐极端使用环境的性能，比如耐高温高湿、耐低温、耐热烫、高盐份（耐盐雾）、耐紫外线照射老化、耐化妆品、耐汗液、耐酸碱等性能；一般的喷油工艺或水电镀工艺是无法满足这些性能要求的。相信在新的物联网硬件及电子疯狂向上生长的背后一定会有更多的机会与挑战，需要CMF从事人员更多的跨界交流和思考真空镀膜技术是表面工程技术领域的重要组成部分。

辉光放电的压力一般较高, 而溅射镀膜的工作压力往往在更低的量级。在前后过渡室之间的部分称为镀膜室或溅射室。每个镀膜室是一个单独的沉积区域。所谓单独是指该镀膜室内的工作压力以及工作氛围不受其它室体的影响。每个溅射室设有一付或两付靶位。每付靶位上可以安装一付磁控溅射靶, 或称为阴极。溅射室的数量亦或溅射靶的数量, 包括选用的靶材, 取决于生产线开发膜系的能力和产量。磁控溅射靶的功率密度一般13W/ cm 2, 比直流溅射要高得多。但实际的电源往往很难保证靶的功率。没有大的功率就没有高沉积速率,而高沉积速率是现代镀膜所推崇的。电源的并联是增强功率的一个途径。平面磁控靶的结构分为直冷式和间冷式两类。直冷式适合于气密性好的靶材。由于冷却效果好, 功率更大一些。在真空离子镀膜设备工作中，所选用不同气体所生产出来的，液态气体色泽也会不一样。湖州磁控镀膜机可以定制吗

磁控溅射工艺可制作复合靶镀合金膜。湖州磁控镀膜机可以定制吗

磁控溅射靶表面不均匀刻蚀。磁控溅射靶表面刻蚀不均是由靶磁场不均所导致，靶的局部位置刻蚀速率较大，使靶材有效利用率较低（只20％-30％的利用率）。因此，想要提高靶材利用率，需要通过一定手段将磁场分布改变，或者利用磁铁在阴极中移动，也可提高靶材利用率。磁控溅射工艺可制作复合靶镀合金膜，目前，采用复合磁控靶溅射工艺已成功镀上了Ta-Ti合金、（Tb-Dy）-Fe以及Gb-Co合金膜。复合靶的结构有四种，分别是圆块镶嵌靶、方块镶嵌靶、小方块镶嵌靶以及扇形镶嵌靶，其中以扇形镶嵌靶结构的使用效果为佳。湖州磁控镀膜机可以定制吗

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